Initial Zr-FS Enam.Occlus.EO-15 20g

Description

Produktinformationen „Initial Zr-FS Enam.Occlus.EO-15 20g“

GC Initial Zr-FS Enam.Occlus.EO-15 20g

Das GC Initial Zr-FS Enam.Occlus.EO-15 bietet Ihnen eine natürliche Ästhetik und Lichtdynamik ohne Abstriche. Es gewährleistet eine präzise Anpassung des Wärmeausdehnungskoeffizienten (WAK) ohne Zugspannungen, was es zu einer idealen Wahl für Ihre Zahntechnik macht.

Dank des hohen Feldspatanteils und der optimierten Kristallstruktur ermöglicht dieses Material eine Lichtreflexion und -dynamik, die mit der von natürlichen Zähnen vergleichbar ist. Die niedrigere Glasgehalt sorgt dafür, dass es punktgenau auf den WAK-Wert der hochfesten Zirkonoxidgerüste abgestimmt ist. Darüber hinaus erleichtert der geringe Brennschwund und die ausgezeichnete Standfestigkeit das Schichten und Modellieren des antagonistenfreundlichen Materials. Der reduzierte Glasanteil ermöglicht es dem Zahntechniker zudem, es problemlos zu beschleifen und zu polieren.

Produktdetails des GC Initial Zr-FS Enam.Occlus.EO-15

• Natürliche Ästhetik mit vergleichbarer Lichtreflexion
• Hoher Feldspatanteil für optimale Lichtdynamik
• Präzise WAK-Anpassung ohne Zugspannungen
• Geringer Brennschwund für einfache Handhabung
• Gute Standfestigkeit für komfortables Schichten
• Antagonistenfreundlich und leicht zu bearbeiten

Technische Daten des GC Initial Zr-FS Enam.Occlus.EO-15

• Feldspatanteil: Hoch
• Glasgehalt: Niedrig
• Brennschwund: Gering
• Bearbeitbarkeit: Einfach zu beschleifen und zu polieren
• WAK-Anpassung: Präzise auf Zirkonoxidgerüste abgestimmt